Як повідомляє The Information, китайська держкомпанія з Шанхаю почала масове виробництво установок DUV-літографії з імерсійним випроміненням.

Очікується, що перші установки отримають вже в цьому році компанії SMIC, Hua Hong Semiconductor та виробник DRAM ChangXin Memory Technologies. В цьому році планується випустити 5 установок і ще близько 20 в наступному.

Всі три вказані компанії входять до списку китайських виробників, яким відповідно до законопроєкту, що наразі перебуває на розгляді у Конгресі США, буде заборонено співробітництво з нідерландською ASML. В The Information не називають виробника, однак джерела видання повідомляють, що в ході розробки були залучені команди розробників DUV з кількох китайських компаній, однією з яких є підтримуваний державою стартап Shanghai Yuliangsheng Technology.

SMIC тестує імерсійний інструмент від Shanghai Yuliangsheng Technology з вересня 2025 року. Більшість компонентів у нових системах китайського виробництва, однак деякі критично важливі компоненти досі надходять з Японії, а затримки в місцевих постачальників стримують виробництво в цьому році.

Резолюція Палати представників США № 8170 накладає заборону на співробітництво SMIC, Hua Hong, CXMT, Huawei та YMTC з ASML. Внесений у квітні законопроєкт MATCH Act, був схвалений Комітетом з іноземних справ Палати представників 22 квітня. Аналогічний законопроєкт також зареєстрований в Сенаті як S. 4281. Його положення стосовно імерсійних DUV-сканерів охоплюють обслуговування та технічну допомогу, а не тільки накладають заборону на експорт, таким чином розширюючи обмеження на обладнання, яке вже працює на китайських підприємствах.

ASML планує поставити близько 130 імерсійних систем в цьому році, що дорівнює показникам минулого року. За словами фіндиректора компанії Роджера Дассена, ASML планує збільшити потужності на 30% у 2027 році для імерсійних систем й вивчає можливість збільшення їх виробництва ще на 30% у 2028 році.

При цьому на Китай припадає близько 20% чистого прибутку ASML в цьому році, що на 13% менше ніж минулого року. Технологія Immersion DUV дозволяє друкувати елементи класу 28 нм за одну експозицію й досягати 7 нм внаслідок багатошарового нанесення малюнка. При цьому збільшується кількість помилок сумісності й зменшується кількість гідних зразків.

За словами гендиректора ASML, Крістофа Фуке, зростання інтенсивності виробництва DRAM частково відображається у заміні клієнтами багатошарового нанесення дешевшою технологією EUV з однократною експозицією. Незалежний аналіз, проведений AI Futures Project в червні, продемонстрував, що комерційне впровадження імерсійної ультрафіолетової літографії в Китаї очікується всередині 2030 років. При цьому ASML продовжить займати 98,7% ринку імерсивної літографії.

Кваліфікація нових машин для серійного виробництва може зайняти багато місяців. За продуктивністю та якістю збірки вони поступаються ASML. Китайська розробка в області EUV-літографії поки що далека від повноцінної реалізації.